近日松岛枫种子
我校武汉光电国度商议中心团队
在国内最初攻克
合成光刻胶所需的原料和配方
草榴论坛助推我国芯片制造要津原材料
率性瓶颈
其研发的T150A光刻胶系列居品
已通过半导体工艺量产考证
杀青了 原材料扫数国产
配方全自主蓄意
有望始创国内半导体光刻制造新方式
光刻胶是一种感光材料，用于芯片制造的光刻时事，使命旨趣同样于影相机的菲林曝光。芯片制造时，会在晶圆上涂上光刻胶，在掩膜版上绘图好电路图。当光芒透过掩膜版映照到光刻胶上会发生曝光，进程一系列解决后，晶圆上就会得到所需的电路图。 由于光刻胶是芯片制造的要津材料，海外企业对其原料和配方高度守秘，当今我国所使用的光刻胶九成以上依赖入口。
武汉光电国度商议中心团队研发的这款半导体专用光刻胶对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。 相较于海外同系列某居品，T150A在光刻工艺中阐发出的极限鉴识率达到120nm，且工艺宽厚度更大、褂讪性更高、留膜率更优，其对刻蚀工艺阐发更好，通过考证发现T150A中密集图形进程刻蚀，基层介质的侧壁垂直度阐发优异。
团队在电子化学品限度深耕二十余载，容身于要津光刻胶底层期间商议，贫寒于于半导体专用高端电子化学品原材料和光刻胶的修复，并以新期间门道为半导体制造开导新式先进光刻制造期间，同期为材料的分析与考证提供全面的技能。
团队认真东谈主示意：“以光刻期间的分子基础商议和原材料的修复为着手，最终得回具有自主学问产权的配方期间，这仅仅个初始。咱们团队还会发展一系列讹诈于不同场景下的KrF与ArF光刻胶，贫寒于于率性海外卡脖子要津期间，为国内相干产业带来更多惊喜。”
来源：华科
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